Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych oraz Wydziału Fizyki Uniwersytetu Warszawskiego opracowali technologię, która umożliwia uzyskiwania dużych płacht grafenu wysokiej jakości.
Polscy uczeni, wśród nich profesor Jacek Baranowski, zastosowali technikę chemicznego osadzania z warstwy gazowej na podłożu z węglika krzemu. Dzięki temu pozyskany grafen jest mniej wrażliwy na niedoskonałości węglika, zapewnia wysoką ruchliwość elektronów.
Polska nie jest co prawda pionierem w dziedzinie wytwarzania grafenu, gdyż pierwszeństwo należy się Amerykanom, jednakże zastosowana przez polskich naukowców metoda umożliwia uzyskanie materiału o wyższych parametrach, dzięki czemu nadaje się on do zastosowania w układach elektronicznych.
 |
| Fot.: Lawrence Barkeley National Laboratory. |
